Titanium Sputtering Target Round Discs Electroplating Target
$12≥1Others
Zahlungsart: | L/C,Western Union,D/P,D/A,T/T,MoneyGram |
Minimum der Bestellmenge: | 1 piece |
Hafen: | Shanghai,Tianjin,Shenzhen |
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Hafen: | Shanghai,Tianjin,Shenzhen |
Brand Name: QIYUEXIN
Model Number: qyx
Technique: Forging
Grade: TA1 TA2 GR5
Powder Or Not: Not Powder
Ti Content (%): 99.8-99.9%
Verarbeitungsservice: Schneiden
Product Name: Titanium Target
Shape: Round Disc Shape
Keyword: sputtering target
Surface: Bright Finish
Certification: ISO9001
Surface Treatment: polished
Advantage: high purity
Density: 4.51g/Cm3
Place Of Origin: Shaanxi, China
Application: sputtering
Material: Titanium Ta1 Ta2
Verkaufseinheiten | : | piece |
Pakettyp | : | Holzkiste |
Titanziel -Titan -Ziel
Die Produktreinheit, die wir bereitstellen können: 99,5%, 99,7%, 99,8%, 99,9%, 99,95%, 99,99%, 99,995%.
Die Form und Größe, die wir liefern: planares Ziel, zylindrisches Ziel, Bogenziel, spezielles Ziel und so weiter.
Titan hat eine Atomzahl von 22 und ein Atomgewicht von 47,867. Es ist ein silberweißes Übergangsmetall, das durch leichtes Gewicht, hohe Festigkeit, metallische Glanz und Resistenz gegen Feuchtigkeit und Chlorgaskorrosion gekennzeichnet ist. Titan vom α-Typ ist ein hexagonales Kristallsystem, und Titan vom β-Typ ist ein kubisches Kristallsystem. Die Übergangstemperatur beträgt 882,5 ° C. Der Schmelzpunkt ist (1660 ± 10) ° C, der Siedepunkt 3287 ° C und die Dichte 4,506 g/cm3. Löslich in verdünnter Säure, unlöslich in kaltem und heißem Wasser; starke Widerstand gegen Meerwasserkorrosion. Titan ist ein wichtiges strukturelles Metall, das in den 1950er Jahren entwickelt wurde. Titanlegierungen weisen eine geringe Dichte, eine hohe spezifische Festigkeit, eine gute Korrosionsbeständigkeit, eine geringe thermische Leitfähigkeit, nichtmagnetische Eigenschaften, Schweißbarkeit und gute Biokompatibilität auf. Die Oberfläche kann stark dekoriert und andere Eigenschaften sein, die in Luftfahrt, Luft- und Raumfahrt, chemischer Industrie, Erdöl, Strom, medizinischer Behandlung, Bauwaren, Sportartikel und anderen Feldern häufig eingesetzt werden.
Die Reinheit des Zielmaterials hat einen großen Einfluss auf die Leistung des Films, und das Zielmaterial ist normalerweise eine polykristalline Struktur. Für dasselbe Zielmaterial ist die Sputterrate des Ziels mit feinen Körnern schneller als die des Ziels mit groben Körnern. und die Dickeverteilung des Films, der durch Sputter mit einer geringeren Korngrößendifferenz (gleichmäßige Verteilung) abgelagert wird, ist gleichmäßiger.
Das von Peking Ruichi gelieferte Titanziel hat eine Reinheit von bis zu 99,995%. Der Produktionsprozess umfasst Schmelzen und thermische Verformungen. Die Länge beträgt 4000 mm und die Breite 350 mm. Die Kristallkörner sind fein, gleichmäßig verteilt, hohe Reinheit, weniger Einschlüsse, hohe Reinheit, abgelagerter Zinnfilm werden in Dekoration, Werkzeug, Halbleiter und anderen Feldern mit guter Haftung, gleichmäßiger Beschichtung und heller Farbe verwendet.
Parameter von Titanzielen mit hoher Purity, die von uns erzeugt wurden:
Widerstand 54? Ohmcm
Überschwerte kritische Temperatur 0,4000k
Temperaturkoeffizient 0,00380K ??
Zugfestigkeit 230.00 - 460,00 MPa
Dichte 4,5 g/cm?
Schmelzpunkt 1660 ° C
Siedepunkt 3287 ° C
Latente Wärme der Verdunstung 8893J G ??
Wärmeleitfähigkeit 21,90 W m ?? K ??
Wir können auch andere Titan -Legierungsziele produzieren:
Tial5 bei%, tial10 bei%, tial20 bei%, tial25 bei%, tial30 bei%, tial40 bei%, tial50 bei%, tita, tisi5 bei%, tisi 10at%, TISI15 bei%, TISI20 bei%, TISI25 bei%,%, ig. Tisi75 bei%, tialnb, tialsi, tizr, tila, tice, tiv, tialzrsi, tialag, tialla, tialre, tiZralre, tisib, zin, tialb, tisib, ticralssib, tialcu, tib?
Verschiedene Reinheiten sind verfügbar:
99,5%, 99,8%, 99,9%, 99,99%...
item
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TITANIUM sputtering target
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Place of Origin
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China
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Shaanxi
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Brand Name
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qiyuexin
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Model Number
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qyx
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Application
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sputtering
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Technique
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forging
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Grade
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TA1 TA2 GR5
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Powder Or Not
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Not Powder
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Ti Content (%)
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99.8-99.9%
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Processing Service
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Cutting, Punching
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Product Name
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Titanium Target
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Shape
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Round Disc Shape
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Keyword
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sputtering target
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Material
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Titanium Ta1 Ta2
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Surface
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Bright Finish
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CERTIFICATION
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ISO9001
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Surface Treatment
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polished
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Advantage
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high purity
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Density
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4.51g/cm3
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